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        “我对光刻机有一点设想。如今国内是芯片是……”

        老专家抢先回答：“接触式光刻。”

        孙梦毓点头，所谓接触式光刻便是掩膜贴到硅片上，再用灯光照射。1这项技术最难的点便是掩膜的制造，只要掩膜成效好，后面的光照根本不是问题。

        由此令国内芯片的走到一个岔路，很多行业者都去钻研如何制造掩膜，要么便是研制光刻胶，光刻工艺很少有人去钻研。

        当然现在更不用提，别说光刻工艺，连钻研掩膜制造的人都少，而国外呢？接触式光刻是人家六十年代玩的东西。

        就这，国内都没赶上。

        其实正确的思路是什么呢？

        改变光刻工艺！

        这是从根本上提升效率和功能的办法。

        在孙梦毓看来，如今的芯片制造只能说是半自动化，用来生产芯片的机器至少差国际水平二十年。

        “我认为咱们芯片制造工艺走入了一个误区，可能是接触式光刻方法的影响，致使咱们的视线都集中在掩膜上，不如转换思路，从光刻工艺上入手。”

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